就连休息，也是临时征用了工厂的员工休息区。
“下午的化学机械抛光（CMP）是关键，表面平整度要控制在0.5nm以内。”
“别忘了检测金属互联层的接触电阻，这直接影响芯片性能。”
梁松在给下面的流程组长一边讲着技术核心要点，一边回顾着中午的表现，进行复盘。
这个时候，王东来走了过来。
当王东来出现的时候，在场的众人都站了起来。
这倒并不是因为王东来老板的身份，而是他们对于王东来所掌握的技术的钦佩。
光刻工厂的技术核心，完全就是王东来一手完成突破的。
到了现在为止，还有很多技术是他们知其然，不知其所以然的。
看似他们是光刻工厂的技术管理人员，实际上就和按开关的猴子没有多大区别。
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